SÜSS MicroTec SE: SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kooperieren bei der Weiterentwicklung der Nanoimprint-Lithografie

GARCHING, Deutschland & BERLIN--(BUSINESS WIRE)--SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und micro resist technology GmbH, ein führendes Unternehmen für die Entwicklung und Herstellung innovativer Fotoresiste und fortschrittlicher Nanoimprint-Materialien, geben heute ihre Zusammenarbeit auf dem Gebiet der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bekannt. NIL ist ein Schlüsselfaktor für die Revolution in der additiven Fertigung dur